Appeler
Etre rappelé

    Contact
    Système de mesure et de positionnement interférométrique laser planaire pour AFM :
    • Système de positionnement et de mesure 2.5 D de la plus haute précision
    • Plage de mesure et de positionnement : surface Ø 100 mm
    • Résolution de la mesure latérale ≤ 0,02 nm
    • Contrôle : 3 interféromètres différentiels couplés par fibre optique
    • Répétabilité métrologique grâce à l’utilisation de lasers HeNe à 633 nm comme source lumineuse pour les interféromètres.
    • Microscopes à force atomique comme système de mesure de palpage, autres sur demande
    • L’architecture ouverte de l’appareil permet l’application de capteurs spécifiques au client
    • Le NPP-1 est commandé par un logiciel PC. Une API utilisateur est disponible.
    • La plateforme de nano-mesure et de positionnement NPP-1 permet un positionnement dans une plage d’environ 100 mm. La haute résolution des interféromètres laser utilisés pour le contrôle, l’architecture rigide de l’ensemble de positionnement, les axes à coussin d’air du système de positionnement et un système de contrôle optimisé permettent des déviations de position et une fidélité de trajectoire des mouvements < 2 nm RMS.
    • L’objet à mesurer est placé directement sur un miroir mobile. La position et la rotation du miroir sont détectées par interférométrie.
    • Des interféromètres ultra-stables de la série SP-DI/F sont utilisés dans ce système. La lumière d’un laser stabilisé est transmise par des fibres optiques de l’unité électronique aux têtes de l’interféromètre. Le NPP-1 est ainsi compact et stable en température.
    • Avec une charge utile allant jusqu’à 5 kg, la plate-forme permet de positionner avec une grande précision des objets plus grands et plus lourds. Le principe du système de nanopositionnement NPP-1 est conçu pour être évolutif et le système peut donc être personnalisé sur demande.

    Fiche technique à télécharger

    BROCHURE SIOS.pdf

    Fiche Technique NPP-1_engl_kl.pdf